“RCVD”是“Reactive Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“反应性化学气相沉积”

英语缩略词“RCVD”经常作为“Reactive Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“反应性化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词RCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词RCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“RCVD”（ 反应性化学气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：RCVD
• 英文单词：Reactive Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：反应性化学气相沉积
• 中文拼音：fǎn yìng xìng huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：698
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Chemistry

以上为Reactive Chemical Vapor Deposition的英文缩略词RCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词RCVD的扩展资料

Many processes are used to prepare transparent conductive films, such as magnetron sputtering, vacuum reactive evaporation, chemical vapor depositions, Sol-gel, laser-pulsed deposition.
多种工艺可以用来制备透明导电薄膜，如磁控溅射真空反应蒸发、化学气相沉积、溶胶-凝胶法以及脉冲激光沉积等。

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