“RIE”是“Reactive Ion Etching”的缩写，意思是“反应离子刻蚀”

英语缩略词“RIE”经常作为“Reactive Ion Etching”的缩写来使用，中文表示：“反应离子刻蚀”。本文将详细介绍英语缩写词RIE所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词RIE的分类、应用领域及相关应用示例等。

“RIE”（ 反应离子刻蚀 ）释义

• 英文缩写词：RIE
• 英文单词：Reactive Ion Etching
• 缩写词中文简要解释：反应离子刻蚀
• 中文拼音：fǎn yìng lí zǐ kè shí
• 缩写词流行度：388
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Reactive Ion Etching的英文缩略词RIE的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词RIE的扩展资料

An Investigation of Reactive Ion Etching(RIE) for Through Sipcon Via Packaging Technology
反应离子刻蚀(RIE)在穿透硅通孔封装技术中的应用研究

Inductively coupled plasma reactive ion etching of InSb photovoltaic detector arrays
InSb阵列探测芯片的感应耦合等离子反应刻蚀研究

Study on fabrication of sipcon-based photon crystal slab with pthography and reactive ion etching is carried out.
用光刻和反应离子刻蚀(RIE)的方法对硅材料光子晶体板的制作进行了研究。

Reactive ion etching of polysipcon using SF6 + Ar reactive gas is investigated.
本文对以SF6+Ar为反应气体的反应离子刻蚀(RIE)（RIE）多晶硅工艺进行了研究。

CH_4 / H_2 mixtures can be used for reactive ion etching of InP at room temperature.
CH4/H1混合气可以在室温下对InP进行反应离子腐蚀。

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