“LTCVD”是“Low-Temperature Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“低温化学气相沉积”

英语缩略词“LTCVD”经常作为“Low-Temperature Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“低温化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词LTCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词LTCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“LTCVD”（ 低温化学气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：LTCVD
• 英文单词：Low-Temperature Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：低温化学气相沉积
• 中文拼音：dī wēn huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：334
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Low-Temperature Chemical Vapor Deposition的英文缩略词LTCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词LTCVD的扩展资料

Low-temperature polycrystalpne Si films were fabricated by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition using SiH_4, Ar and H_2 as source gas.
以SiH4，Ar和H2为反应气体，采用射频等离子体化学气相沉积方法在300℃下制备了低温多晶Si薄膜。

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