“LPCVD”是“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“低压化学气相沉积”

英语缩略词“LPCVD”经常作为“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“低压化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词LPCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词LPCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“LPCVD”（ 低压化学气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：LPCVD
• 英文单词：Low Pressure Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：低压化学气相沉积
• 中文拼音：dī yā huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：131
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Low Pressure Chemical Vapor Deposition的英文缩略词LPCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词LPCVD的扩展资料

Synthesis of Carbon Nanotubes by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) and Their Apppcations
碳纳米管的低压化学气相沉积(LPCVD)法制备及其应用研究

Nano-sized sipcon films with large area were prepared by normal Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD) method.
利用普通低压化学气相沉积(LPCVD)技术在玻璃衬底上制备了大面积的纳米硅薄膜。

In this paper CNT film was deposited on metal substrate by low temperature and low pressure chemical vapor deposition ( CVD ). Field emission cathode was made by thin-film and thick-film process.
本文采用低温低压化学气相沉积(LPCVD)（CVD）方法在金属衬底上直接生长碳纳米管薄膜，并分别运用薄膜和厚膜工艺，制作场发射阴极。

Acetylene Flow Rate Effect on Morphology and Structure of Carbon Nanotube Thick Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

Growth Rate and Surface Morphology of Sipcon Nitride Thin Films by Low Pressure Chemical Vapor Deposition(LPCVD)
低压CVD氮化硅薄膜的沉积速率和表面形貌

上述内容是“Low Pressure Chemical Vapor Deposition”作为“LPCVD”的缩写，解释为“低压化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词LPCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。