“IVD”是“Ion Vapor Deposition”的缩写，意思是“离子气相沉积”

英语缩略词“IVD”经常作为“Ion Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“离子气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词IVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词IVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“IVD”（ 离子气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：IVD
• 英文单词：Ion Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：离子气相沉积
• 中文拼音：lí zǐ qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：120
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Chemistry

以上为Ion Vapor Deposition的英文缩略词IVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词IVD的扩展资料

Strengthening effect and acting mechanics of RE elements were mainly studied in diffusing implantation, ion infiltration and vapor deposition.
扩散渗入中，稀土元素主要起到催渗和微合金化的作用；

DLC films were deposited at 120 ℃ using ion beam implantation assisted vapor deposition of mineral oil.
采用碳离子束注入辅助蒸发矿物油的方法在120℃低温沉积了DLC薄膜；

Phosphine ( PH3 ) is an important electronic specific gas which is mainly used in fields of N-type semiconductor doping, ion implement and chemical vapor deposition ( CVD ) etc.
磷化氢（PH3）是一种重要的电子特气，主要用于n型半导体的掺杂、离子注入和化学气相沉积（CVD）等。

Progress in Preparation of Thin Film Electrodes for Lithium Ion Batteries by Physical Vapor Deposition
物理气相沉积制备锂离子电池正极薄膜研究进展

The various preparation methods of a-C : H thin films, including plasma deposition, ion beam deposition, sputtering and chemical vapor deposition, were described in detail in this paper.
本文详细介绍了a-C∶H薄膜的各种制备方法，包括等离子体淀积法、离子束法、溅射法和化学汽相淀积法等，给出了某些典型的实验条件。

上述内容是“Ion Vapor Deposition”作为“IVD”的缩写，解释为“离子气相沉积”时的信息，以及英语缩略词IVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。